超純水與去離子水之前的區(qū)別并不是很大，因為兩者在制取工藝上幾乎相差無幾。超純水機的使用因不同的實驗室對水質(zhì)的要求不同，工藝基本都有很大的變化，比如雙級反滲透、單級反滲透，是否需要通過離子交換柱進一步提純等。去離子水老式的制取方法采用混床工藝，現(xiàn)代普遍使用EDI電滲析技術進行制取去離子水，而超純水一般可不使用EDI進行提純。

超純水是為了研制超純材料（半導體原件材料、納米精細陶瓷材料等）應用蒸餾、去離子化、反滲透技術或其它適當?shù)某R界精細技術生產(chǎn)出來的水，其電阻率大于18 MΩ*cm，或接近18.3 MΩ*cm極限值（25℃）。簡單得說就是幾乎去除氧和氫以外所有原子的水。這樣的水是一般工藝很難達到的程度，理論上可以采用二級反滲透再經(jīng)過串聯(lián)的混合型交換樹脂柱對二次反滲水進行處理，但是交換樹脂的再生不便，質(zhì)量難以保證。

去離子水是指除去了呈離子形式雜質(zhì)后的純水。國際標準化組織ISO/TC 147規(guī)定的“去離子”定義為：“去離子水完全或不完全地去除離子物質(zhì)。”如今的工藝主要采用RO反滲透+EDI電滲析技術制取。應用離子交換樹脂去除水中的陰離子和陽離子，但水中仍然存在可溶性的有機物，可以污染離子交換柱從而降低其功效，去離子水存放后也容易引起細菌的繁殖。

可從兩者的用途上看：

1.超純水的用途：

電子、電力、電鍍、照明電器、實驗室、食品、造紙、日化、建材、造漆、蓄電池、化驗、生物、制藥、石油、化工、鋼鐵、玻璃、化工工藝用水、化學藥劑、化妝品；

單晶硅、半導體晶片切割制造、半導體芯片、半導體封裝 、引線柜架、集成電路、液晶顯示器、導電玻璃、顯像管、線路板、光通信、電腦元件 、電容器潔凈產(chǎn)品及各種元器件、高壓變電器的清洗等。

2.去離子水的用途：

實驗室、化驗室用水，一般實驗室的常規(guī)試驗、配置常備溶液、清洗玻璃器皿等；電子工業(yè)生產(chǎn)，如顯像管玻殼、顯像管、液晶顯示器、線路板、計算機硬盤、集成電路芯片、單晶硅半導體等；電力鍋爐，鍋爐所需軟化水、除鹽；

汽車、家用電器、建材表面涂裝、電鍍、鍍膜玻璃清洗等；石油化工行業(yè),化工反應冷卻水、化學藥劑、生產(chǎn)配液用水等；工業(yè)紡織印染、鋼鐵清洗用水等；食品、飲料、酒類、化妝品生產(chǎn)用水；海水、苦咸水等凈化。

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